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Data · dataset · 2026

Avaliação e estudo de tecnologias de MOSFETs de Carbeto de Sílicio (SiC)

Listed in REDU - Unicamp Institutional Research Data Repository

Os dados apresentados estão relacionados ao estudo de tecnologias de MOSFETs de Carbeto de Silício (SiC).

Description

Inicialmente, foi realizada uma comparação entre diferentes encapsulamentos de MOSFETs SiC, sendo eles: TO247-3, que não possui tecnologia Kelvin; TO247-4, que possui tecnologia Kelvin; e TO263-7, que possui tecnologia Kelvin e múltiplos terminais de source. Nessa etapa, foi realizada uma comparação do comportamento de comutação desses dispositivos durante os processos de acionamento e desligamento.

Foram avaliadas quatro curvas: tensão entre gate e source (Vgs), tensão entre dreno e source (Vds), corrente entre dreno e source (Ids) e corrente de gate (Ig). Posteriormente, foram realizados estudos de caso especificamente para o dispositivo no encapsulamento TO263-7, com foco em dois parâmetros importantes: indutância parasita e a resistência de gate. É importante ressaltar que todos os dados foram obtidos por meio do software PSIM, uma ferramenta de simulação de circuitos eletrônicos amplamente utilizada na área de eletrônica de potência.

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Engineering
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Engineering
Provenance · 1 source records, 9 field assertions
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REDU - Unicamp Institutional Research Data Repositorydoi:10.25824/redu/CBVVDH8 d agoJSON v1
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