Conjunto de dados experimentais e computacionais da deposição de fotorresiste AZ5214E por blade coating em substrato de silício

Os dados documentam todas as etapas do processo de deposição e caracterização do fotorresiste AZ5214E, incluindo: Clivagem das lâminas de silício e caracterização dimensional dos fragmentos; Configuração experimental de deposição e fixação por vácuo; Medições de espessura e uniformidade por refletometria (Filmetrics F40-UV); Imagens ópticas das amostras e comparativos entre lotes; Análises litográficas com exposição, revelação e inspeção microscópica; Modelagem teórica e ajuste experimental segundo o modelo de Landau–Levich; Códigos MATLAB e Python para geração de gráficos, mapas de espessura e estatísticas.

O repositório está organizado em módulos independentes, cada um documentado com arquivo README.md, contendo o contexto experimental, estrutura dos dados, parâmetros físicos e licença de uso.